Mung Bean Wash Off Facial Mask /100ml

Μάσκα για βαθύ καθαρισμό των πόρων και των ρύπων.

19,20

Διαθεσιμότητα: Σε απόθεμα

Κωδικός προϊόντος: 8809631801442 Κατηγορίες: ,

Η House of Dohwa Mung Bean Wash Off Facial Mask είναι μία καθαριστική μάσκα αργίλου με mung φασόλι που καθαρίζει τους ρύπους,το υπερβολικό σμήγμα και τους φραγμένους πόρους αφήνοντας το δέρμα απαλό και λείο.Περιέχει επίσης άργιλο Kaolin και Bentonite ,οι οποίοι βοηθούν στην απομάκρυνση των ρύπων και ακαθαρσιών που μπορεί να φράξουν τους πόρους και να μειώσουν τις ατέλειες. Επίσης, βοηθούν στη βελτίωση των διευρυμένων πόρων μέσω της ήπιας απολέπισης, με αποτέλεσμα πιο λείο και φωτεινό δέρμα. Έχει ένα διακριτικό άρωμα αργίλου και μια απαλή και ευχάριστη υφή όταν εφαρμόζεται στο δέρμα. Ξεπλένεται εύκολα όταν έρθει σε επαφή με το νερό.

Το Mung Bean συμβάλλει στην καταπράυνση και την ηρεμία του στρεσαρισμένου δέρματος μειώνοντας την εμφάνιση ερυθρότητας καθώς και στην ενίσχυση του φυσικού φραγμού της επιδερμίδας.

Κατάλληλη για:Όλους τους τύπους δέρματος.Συνίσταται για λιπαρές και με τάση ακμής επιδερμίδες.

1.Μετά τον καθαρισμό,απλώστε μια ομοιόμορφη στρώση σε καθαρό δέρμα.
2.Κάντε απαλό μασάζ με κυκλικές κινήσεις σε όλο το πρόσωπο για να απολεπίσετε τα νεκρά κύτταρα του δέρματος,αποφεύγοντας την περιοχή των ματιών.
3,Αφήστε την να δράσει για 10 λεπτά.
4.Έπειτα ξεπλύνετε με χλιαρό νερό.
5.Συνεχίστε με την καθημερινή σας περιποίηση.

Water, Kaolin, Butylene Glycol, Glycerin, Bentonite, Phaseolus Radiatus Seed Powder, CI 77891, Dipropylene Glycol, Hydroxyacetophenone, CI 77288, Polymethylsilsesquioxane, Caprylyl Glycol, Silica, CI 77492, Fragrance, Ethylhexylglycerin, Disodium EDTA, Dipotassium Glycyrrhizate, Hydrolyzed Hyaluronic Acid, 1,2-Hexanediol, Tocopherol, Camellia Sinensis Leaf Extract, Houttuynia cordata Extract, Oryza Sativa (Rice) Extract, Centella Asiatica Extract

Καλάθι αγορών
Κύλιση στην κορυφή